產品名稱高純度靶材尺寸1.圓形靶：?30--2000mm，厚度3.0mm--300mm； 2.板托：長度：200-500mm寬度：100-230mm厚度：3--40mm 3.靶材：直徑：30-200mm厚度：5-20mm長度：500-2000mm 4.可... 【詳情】

產品名稱：鈦管靶牌號：TA1/GR1，TA2/GR2主要形式：圓靶、板靶、管靶鈦含量≥：99.8(%)雜質含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊) 密度：4.51或4.50牌號：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 圓靶：60/... 【詳情】

產品名稱：TA1(GR1)鈦靶塊主要用途：鈦濺射靶應用于裝飾和功能 鍍膜工業、平面顯示工業、光數據存儲工業 （光盤工業）光通訊工業、玻璃鍍膜（建筑 玻璃和汽車玻璃）工業等行業。執行標... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材，高純鈦靶牌號：TA0，TA1，TA2/GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：鈦靶材應用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻... 【詳情】

名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦平面靶，鈦旋轉靶牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：鈦靶材用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材、高純鈦圓靶 牌號：TA1、Ti4N、Ti-Nb 、Zr702、Ni、Gr、Nb1、Nb-Zr10%、Ta1 純度：99.9%-99.99% 規格：Φ100×40、Φ100×45、Φ95&... 【詳情】

1、產品介紹：鈦是一種耐蝕金屬,其與氧氣反應生成穩定而致密的氧化膜,該氧化膜在氧化性介質、中性介質或弱還原性介質中穩定。因此,在許多介質中可直接使用工業純鈦,或在介質... 【詳情】